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MAH200 圖形電鍍係列幹膜光阻劑

    MAH200 圖形電鍍係列幹膜光阻劑

MAH200 圖形電鍍係列幹膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的幹膜光阻劑,特別適用於外層電鍍的應用。特別針對高可能一次合格率而設計,在蓋孔&蝕刻和酸性電鍍工藝中有出色的性能。

特色及優點

極好的貼合度-高良率

蓋孔能力優異

顯影後邊牆垂直/電鍍後邊牆垂直

顯影泡沫少

高解析度、高附著力

應用於酸性鍍銅和鎳金工藝時無滲鍍現象

化學物質滲漏少

堿性褪膜性能好-膜屑顆粒小

堿性褪膜速度快

項目
單位
MAH220
MAH215
備注
厚度
μm
50
38

感度*1
mj/cm2
40
30

*短顯影時間
sec.
32
25

附著力*1*2(L/S=X/250)
μm
30
25

解析度*1*2(L/S=X/X)
μm
30
25

蓋孔孔徑
μm
7.5
6.5

*1:MAH215(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海聖平行光曝光機製作(UVE-HSP5K-11

*2:1wt%Na2CO3,30℃,*短顯影時間x2

*3:分辨率、解析度以及顯影後圖像。



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